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    Titel :

    High-aspect-ratio nanoporous membranes made by reactive ion etching and e-beam and interference lithography


    Beteiligte:
    Divan, R. (Autor:in) / Makarova, O. V. (Autor:in) / Skoog, S. (Autor:in) / Narayan, R. (Autor:in) / Sumant, A. V. (Autor:in) / Tang, C. M. (Autor:in) / Moldovan, N. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 20 , 10-11 ; 1797-1802


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2014


    Format / Umfang :

    6 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83




    Fabrication of a high aspect ratio nanoporous array on silicon

    Ho, J. Y. / Chang, K. J. / Wang, G. J. | British Library Online Contents | 2012


    Fabrication of high aspect ratio nano gratings using SR lithography

    Kato, F. / Fujinawa, S. / Li, Y. et al. | British Library Online Contents | 2007



    High aspect ratio micromachining by synchrotron radiation direct photo-etching

    Katoh, T. / Zhang, Y. | British Library Online Contents | 1998