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    Titel :

    Fabrication of high aspect ratio nano gratings using SR lithography


    Beteiligte:
    Kato, F. (Autor:in) / Fujinawa, S. (Autor:in) / Li, Y. (Autor:in) / Sugiyama, S. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 13 , 3-4 ; 221-225


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2007


    Format / Umfang :

    5 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Fabrication technique for high-aspect-ratio gratings [3879-07]

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