Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    WB2.4 Realization of High Aspect Ratio Nano-Pillar Type Photonic Crystal by Deep Reactive Ion Etching


    Kongress:

    Optical interconnects & VLSI photonics ; 2004 ; San Diego, Calif



    Erscheinungsdatum :

    01.01.2004


    Format / Umfang :

    2 pages


    Anmerkungen:

    IEEE cat. no. 04TH8728. Held as part of the 2004 IEEE/LEOS Summer topical meeting




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch






    Fabrication of two dimensional high aspect ratio polymer photonic crystal laser

    Zhou, J. / Liu, G. / Zhang, X. et al. | British Library Online Contents | 2013


    High-aspect-ratio nanoporous membranes made by reactive ion etching and e-beam and interference lithography

    Divan, R. / Makarova, O. V. / Skoog, S. et al. | British Library Online Contents | 2014


    High aspect ratio micromachining by synchrotron radiation direct photo-etching

    Katoh, T. / Zhang, Y. | British Library Online Contents | 1998