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    Titel :

    A novel method to overcome photoresist collapse with high aspect ratio structures


    Beteiligte:
    Yu, M. (Autor:in) / Zhao, S. (Autor:in) / Gao, C. (Autor:in) / Guo, X. (Autor:in) / Xu, X. (Autor:in) / Shi, Y. (Autor:in) / Jing, Y. (Autor:in) / Chen, B. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 20 , 12 ; 2185-2189


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2014


    Format / Umfang :

    5 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



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