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    Titel :

    BPN a new thick negative photoresist with high aspect ratio for MEMS applications


    Beteiligte:
    Bourrier, D. (Autor:in) / Dilhan, M. (Autor:in) / Ghannam, A. (Autor:in) / Ourak, L. (Autor:in) / Granier, H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 19 , 3 ; 419-423


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2013


    Format / Umfang :

    5 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Novel positive-tone thick photoresist for high aspect ratio microsystem technology

    Hsieh, G.-W. / Hsieh, Y.-S. / Yang, C.-R. et al. | British Library Online Contents | 2002


    Potential of BPN as a new negative photoresist for a very thick layer with high aspect ratio

    Bourrier, D. / Ghannam, A. / Dilhan, M. et al. | British Library Online Contents | 2014


    Fabrication of high-aspect-ratio microstructures using SU8 photoresist

    Liu, G. / Tian, Y. / Kan, Y. | British Library Online Contents | 2005


    Metrology of high aspect ratio MEMS

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    Aqueous base developable: easy stripping, high aspect ratio negative photoresist for optical and proton beam lithography

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