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    Titel :

    Aqueous base developable: easy stripping, high aspect ratio negative photoresist for optical and proton beam lithography


    Beteiligte:
    Chatzichristidi, M. (Autor:in) / Rajta, I. (Autor:in) / Speliotis, T. (Autor:in) / Valamontes, E. (Autor:in) / Goustouridis, D. (Autor:in) / Argitis, P. (Autor:in) / Raptis, I. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 14 , 9-11 ; 1423-1428


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2008


    Format / Umfang :

    6 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



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