Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Equations of exposure time and X-ray mask absorber thickness in the LIGA process


    Beteiligte:
    Gil, K. H. (Autor:in) / Lee, S. S. (Autor:in) / Youm, Y. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    01.01.2001


    Format / Umfang :

    5 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    The influence of mask substrate thickness on exposure and development times for the LIGA process

    Griffiths, S. K. / Ting, A. / Hruby, J. M. | British Library Online Contents | 2000


    Silicon IC compatible LIGA mask-fabrication process

    Suzuki, K. / Sugiyama, S. | British Library Online Contents | 1997


    Inexpensive, quickly producable X-ray mask for LIGA

    Harris, C. / Desta, Y. / Kelly, K. W. et al. | British Library Online Contents | 1999


    New LIGA exposure source in China

    Tang, E. / Yi, F. / Zhang, S. B. et al. | British Library Online Contents | 1998


    Photoresist application for the LIGA process

    Chaudhuri, B. / Guckel, H. / Klein, J. et al. | British Library Online Contents | 1998