This paper addresses the specific issue of optical proximity correction (OPC) used in large array pillar type two-dimensional photonic crystal fabrication by deep UV lithography for a nonsequential technique amenable for batch fabrication.


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    Titel :

    248 nm lithography of 2D photonic crystal waveguide with proximity correction


    Beteiligte:
    Teo, H.G. (Autor:in) / Yu, M.B. (Autor:in) / Doan, M.T. (Autor:in) / Singh, J. (Autor:in) / Singh, S. (Autor:in) / Sun, H.Q. (Autor:in) / Liu, A.Q. (Autor:in)


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2004


    Format / Umfang :

    254584 byte





    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch




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