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    Titel :

    WB2.6 248nm Lithography of 2D Photonic Crystal Waveguide with Optical Proximity Correction


    Kongress:

    Optical interconnects & VLSI photonics ; 2004 ; San Diego, Calif



    Erscheinungsdatum :

    01.01.2004


    Format / Umfang :

    2 pages


    Anmerkungen:

    IEEE cat. no. 04TH8728. Held as part of the 2004 IEEE/LEOS Summer topical meeting




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    248 nm lithography of 2D photonic crystal waveguide with proximity correction

    Teo, H.G. / Yu, M.B. / Doan, M.T. et al. | IEEE | 2004


    157nm-248nm Multiwavelength Excitation Processing for Application in Optoelectronic Manufacturing

    Obata, K. / Sugioka, K. / Akane, T. et al. | British Library Conference Proceedings | 2001




    Deep UV lithography for planar photonic crystal structures

    Bogaerts, W. / Dumon, P. / Van Campenhout, J. et al. | IEEE | 2003