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    Titel :

    Chemical Beam Etching With Monolayer Control


    Beteiligte:
    Tsang, W.T. (Autor:in) / Kapre, R.M. (Autor:in) / Chiu, T.H. (Autor:in) / Williams, M.D. (Autor:in) / Ferguson, J.F. (Autor:in)


    Erscheinungsdatum :

    01.01.1994


    Format / Umfang :

    25840 byte




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch



    Chemical Beam Etching with Monolayer Control

    IEEE; Lasers and Electro-Optics Society | British Library Conference Proceedings | 1994


    Plasma/Neutral-Beam Etching Apparatus

    Langer, William / Cohen, Samuel / Cuthbertson, John et al. | NTRS | 1989


    Precise wet-chemical etching

    Grunthaner, F. J. | NTRS | 1980


    Chemical etching plant doubles

    Emerald Group Publishing | 2001


    Ion-beam etching enhances adhesive bonding

    Banks, B. A. / Mirtich, M. J. / Sovey, J. S. | NTRS | 1980