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    Titel :

    Application of photo-etching of polytetrafluoroethylene induced by high energy synchrotron radiation to LIGA


    Beteiligte:
    Kido, H. (Autor:in) / Kuroki, T. (Autor:in) / Okubo, M. (Autor:in) / Utsumi, Y. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 19 , 3 ; 301-307


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2013


    Format / Umfang :

    7 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    High aspect ratio micromachining by synchrotron radiation direct photo-etching

    Katoh, T. / Zhang, Y. | British Library Online Contents | 1998




    Study on three-dimensional micromachining using synchrotron radiation etching

    Nishi, N. / Katoh, T. / Ueno, H. et al. | British Library Online Contents | 2002


    Photoresist application for the LIGA process

    Chaudhuri, B. / Guckel, H. / Klein, J. et al. | British Library Online Contents | 1998