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    Titel :

    Parameter optimization for an ICP deep silicon etching system


    Beteiligte:
    Chen, S. C. (Autor:in) / Lin, Y. C. (Autor:in) / Wu, J. C. (Autor:in) / Horng, L. (Autor:in) / Cheng, C. H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 13 , 5-6 ; 465-474


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2007


    Format / Umfang :

    10 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



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