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    Title :

    Induktiv gekoppelte maskenlose Plasmatexturierung von kristallinem Silizium durch SF6/O2 für die industrielle Photovoltaik


    Contributors:
    Hirsch, Jens (author) / Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg (degree granting institution)

    Publication date :

    2018


    Size :

    111 Seiten


    Remarks:

    Illustrationen, Diagramme
    Literaturverzeichnis Seite 101-108


    Type of media :

    Theses


    Type of material :

    Print


    Language :

    German



    Classification :

    BKL:    33.80 Plasmaphysik / 33.68 Oberflächen, Dünne Schichten, Grenzflächen / 53.36 Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher






    Gewindeschleifen mit kubisch kristallinem Bornitrid

    Klocke,F. / Tech.Univ.Berlin,Inst.f.Werkzeugmasch.u.Fertig.-Tech. | Automotive engineering | 1982


    Zahnflankenschleifen mit kubisch-kristallinem Bornitrid

    Bausch,T. / Tech.Univ.Braunschweig,Inst.f.Werkzeugmasch.u.Fertig.-Tech. | Automotive engineering | 1977