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    Titel :

    Induktiv gekoppelte maskenlose Plasmatexturierung von kristallinem Silizium durch SF6/O2 für die industrielle Photovoltaik


    Beteiligte:
    Hirsch, Jens (Autor:in) / Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg (Grad-verleihende Institution)

    Erscheinungsdatum :

    2018


    Format / Umfang :

    111 Seiten


    Anmerkungen:

    Illustrationen, Diagramme
    Literaturverzeichnis Seite 101-108


    Medientyp :

    Hochschulschrift


    Format :

    Print


    Sprache :

    Deutsch



    Klassifikation :

    BKL:    33.80 Plasmaphysik / 33.68 Oberflächen, Dünne Schichten, Grenzflächen / 53.36 Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher






    Gewindeschleifen mit kubisch kristallinem Bornitrid

    Klocke,F. / Tech.Univ.Berlin,Inst.f.Werkzeugmasch.u.Fertig.-Tech. | Kraftfahrwesen | 1982


    Zahnflankenschleifen mit kubisch-kristallinem Bornitrid

    Bausch,T. / Tech.Univ.Braunschweig,Inst.f.Werkzeugmasch.u.Fertig.-Tech. | Kraftfahrwesen | 1977