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    Titel :

    2.5 kHz high-repetition-rate XeCl excimer laser


    Beteiligte:
    Ishikawa, Ken (Autor:in) / Takagi, S. (Autor:in) / Okamoto, Naomichi (Autor:in) / Kakizaki, K. (Autor:in) / Satoh, Saburoh (Autor:in) / Goto, Tatsumi (Autor:in)

    Kongress:

    8th Intl Symp on Gas Flow and Chemical Lasers ; 1990 ; Madrid,Spain


    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    1991-02-01





    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch



    Beam quality of a XeCl excimer laser vs. the repetition rate [3889-46]

    Di Lazzaro, P. / Bollanti, S. / Bonfigli, F. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    5 kHz high repetition rate excimer laser

    Takagi, S. / Kakizaki, K. / Okamoto, N. et al. | IEEE | 1995


    High repetition rate KrF excimer laser for microphotolithography

    Kakuno, T. / Enami, T. / Kakizaki, K. | IEEE | 1995


    Discharge studies with a high-efficiency XeCl excimer laser

    Trentelman, M. / Ekelmans, G. B. / van Goor, Frederik A. et al. | SPIE | 1991


    Development Of Repetitively Pulsed XeCl Excimer Laser

    Bhatnagar, P. / Shrivastava, B. B. / Mokhariwale, A. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000