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    Titel :

    Discharge studies with a high-efficiency XeCl excimer laser


    Beteiligte:

    Kongress:

    8th Intl Symp on Gas Flow and Chemical Lasers ; 1990 ; Madrid,Spain


    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    1991-02-01





    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch



    2.5 kHz high-repetition-rate XeCl excimer laser

    Ishikawa, Ken / Takagi, S. / Okamoto, Naomichi et al. | SPIE | 1991


    Stereolithography with XeCl excimer laser/lamp [3888-29]

    Satoh, S. / Tanaka, T. / Ihara, S. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    Development Of Repetitively Pulsed XeCl Excimer Laser

    Bhatnagar, P. / Shrivastava, B. B. / Mokhariwale, A. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    Beam divergence studies on a long-pulse XeCl excimer laser [2788-22]

    Hofstra, R. M. / Van Goor, F. A. / Witteman, W. J. et al. | British Library Conference Proceedings | 1996


    Zinc oxide film formation by using XeCl excimer laser ablation

    Hiramatsu, M. / Ichiyanagi, S. / Imaeda, K. et al. | IEEE | 1999