Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Development Of Repetitively Pulsed XeCl Excimer Laser


    Beteiligte:

    Kongress:

    9th, National laser symposium ; 2000 ; Delhi



    Erscheinungsdatum :

    2000-01-01


    Format / Umfang :

    2 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Schlagwörter :



    Stereolithography with XeCl excimer laser/lamp [3888-29]

    Satoh, S. / Tanaka, T. / Ihara, S. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    2.5 kHz high-repetition-rate XeCl excimer laser

    Ishikawa, Ken / Takagi, S. / Okamoto, Naomichi et al. | SPIE | 1991


    Repetitively Pulsed Cr:LiSAF Laser for Lidar Applications

    Shimada, T. / Early, J. W. / Lester, C. S. et al. | British Library Conference Proceedings | 1994


    Discharge studies with a high-efficiency XeCl excimer laser

    Trentelman, M. / Ekelmans, G. B. / van Goor, Frederik A. et al. | SPIE | 1991