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    Titel :

    5 kHz high repetition rate excimer laser


    Beteiligte:
    Takagi, S. (Autor:in) / Kakizaki, K. (Autor:in) / Okamoto, N. (Autor:in) / Endo, F. (Autor:in) / Ishikawa, K. (Autor:in) / Goto, T. (Autor:in)


    Erscheinungsdatum :

    1995-01-01


    Format / Umfang :

    278116 byte




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch



    2.5 kHz high-repetition-rate XeCl excimer laser

    Ishikawa, Ken / Takagi, S. / Okamoto, Naomichi et al. | SPIE | 1991


    High repetition rate KrF excimer laser for microphotolithography

    Kakuno, T. / Enami, T. / Kakizaki, K. | IEEE | 1995


    High-repetition-rate excimer laser for micromachining [4971-16]

    Herbst, L. / Klaft, I. / Wenzel, T. et al. | British Library Conference Proceedings | 2003


    High-repetition-rate ArF excimer laser for microlithography [4088-80]

    Wakabayashi, O. / Enami, T. / Ishii, K. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    kHz repetition rate operation of excimer laser [2889-518]

    Park, H. / Lee, C. / SPIE | British Library Conference Proceedings | 1996