Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Reactive ion etching of dielectrics and silicon for photovoltaic applications



    Erschienen in:

    Progress in photovoltaics ; 14 , 7 ; 603-614


    Erscheinungsdatum :

    2006



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Unbekannt


    Klassifikation :

    BKL:    53.36 Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher



    Shallow and deep dry etching of silicon using ICP cryogenic reactive ion etching process

    Sökmen, . / Stranz, A. / Fündling, S. et al. | British Library Online Contents | 2010


    HgCdTe long-wavelength infrared photovoltaic detectors formed by reactive ion etching [4795-25]

    Nguyen, T. T. / Dell, J. M. / Musca, C. A. et al. | British Library Conference Proceedings | 2002


    Study of silicon backside damage in deep reactive ion etching for bonded silicon-glass structures

    Yoshida, Y. / Kumagai, M. / Tsutsumi, K. | British Library Online Contents | 2003



    Silicon isotropic and anisotropic etching for MEMS applications

    Negi, S. / Bhandari, R. | British Library Online Contents | 2013