A new method of patterning photonic crystal (PhC) structures by single-spot electron-beam exposure scheme is presented. An order-of-magnitude reduction in the required job time compared to that for the conventional multispot scheme has been achieved.


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    Titel :

    Generation of photonic crystal patterns by single-spot electron beam lithography


    Beteiligte:
    Kim, S. (Autor:in) / Chong, H. (Autor:in) / De La Rue, R.M. (Autor:in) / Marsh, J.H. (Autor:in) / Bryce, A.C. (Autor:in)


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2003


    Format / Umfang :

    264694 byte



    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch





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