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    Titel :

    Characterization method for new resist formulations for HAR patterns made by X-ray lithography


    Beteiligte:
    Kunka, D. (Autor:in) / Mohr, J. r. (Autor:in) / Nazmov, V. (Autor:in) / Meiser, J. (Autor:in) / Meyer, P. (Autor:in) / Amberger, M. (Autor:in) / Koch, F. (Autor:in) / Schulz, J. (Autor:in) / Walter, M. (Autor:in) / Duttenhofer, T. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 20 , 10-11 ; 2023-2029


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2014


    Format / Umfang :

    7 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Resist-based neutral atom lithography

    Thywissen, J. H. / Johnson, K. S. / Younkin, R. et al. | British Library Conference Proceedings | 1998


    Deep photo-lithography characterization of SU-8 resist layers

    Reznikova, E. F. / Mohr, J. / Hein, H. | British Library Online Contents | 2005


    SU-8 as resist material for deep X-ray lithography

    Cremers, C. / Bouamrane, F. / Singleton, L. et al. | British Library Online Contents | 2001


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    Hansong, L. / Yucheng, D. / Suqin, W. | British Library Online Contents | 2003


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    Yongsheng, S. / Yucheng, D. / Bingheng, L. | British Library Online Contents | 2006