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    Titel :

    Deep photo-lithography characterization of SU-8 resist layers


    Beteiligte:
    Reznikova, E. F. (Autor:in) / Mohr, J. (Autor:in) / Hein, H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 11 , 4/5 ; 282-291


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2005


    Format / Umfang :

    10 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Resist-based neutral atom lithography

    Thywissen, J. H. / Johnson, K. S. / Younkin, R. et al. | British Library Conference Proceedings | 1998


    SU-8 as resist material for deep X-ray lithography

    Cremers, C. / Bouamrane, F. / Singleton, L. et al. | British Library Online Contents | 2001


    Influence of mask substrate materials on resist sidewall roughness in deep X-ray lithography

    Aigeldinger, G. / Yang, C. Y. / Skala, D. M. et al. | British Library Online Contents | 2008


    Simulation of deep UV lithography with SU-8 resist by using 365 nm light source

    Tian, X. / Liu, G. / Tian, Y. et al. | British Library Online Contents | 2005


    Characterization method for new resist formulations for HAR patterns made by X-ray lithography

    Kunka, D. / Mohr, J. r. / Nazmov, V. et al. | British Library Online Contents | 2014