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    Titel :

    Influence of mask substrate materials on resist sidewall roughness in deep X-ray lithography


    Beteiligte:
    Aigeldinger, G. (Autor:in) / Yang, C. Y. (Autor:in) / Skala, D. M. (Autor:in) / Morse, D. H. (Autor:in) / Talin, A. A. (Autor:in) / Griffiths, S. K. (Autor:in) / Hachman, J. T. (Autor:in) / Ceremuga, J. T. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 14 , 2 ; 277-286


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2008


    Format / Umfang :

    10 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



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