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    Titel :

    Mask design compensation for sloped sidewall structures fabricated by X-ray lithography


    Beteiligte:
    Horade, M. (Autor:in) / Khumpuang, S. (Autor:in) / Fujioka, K. (Autor:in) / Sugiyama, S. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 13 , 3-4 ; 215-219


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2007


    Format / Umfang :

    5 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



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