Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    A Si stencil mask for deep X-ray lithography fabricated by MEMS technology


    Beteiligte:
    Mekaru, H. (Autor:in) / Takano, T. (Autor:in) / Ukita, Y. (Autor:in) / Utsumi, Y. (Autor:in) / Takahashi, M. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 14 , 9-11 ; 1335-1342


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2008


    Format / Umfang :

    8 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Mask design compensation for sloped sidewall structures fabricated by X-ray lithography

    Horade, M. / Khumpuang, S. / Fujioka, K. et al. | British Library Online Contents | 2007


    Fabrication of HARM structures by deep-X-ray lithography using graphite mask technology

    Coane, P. / Giasolli, R. / Ledger, S. et al. | British Library Online Contents | 2000


    Fabrication of intermediate mask for deep x-ray lithography

    Sheu, J. T. / Chiang, M. H. / Su, S. | British Library Online Contents | 1998


    Micro gas bearings fabricated by deep X-ray lithography

    Kim, D. / Lee, S. / Jin, Y. et al. | British Library Online Contents | 2004


    Deep X-ray lithography using mask with integrated electrothermal actuator

    Lee, K.-C. / Lee, S. S. | British Library Online Contents | 2005