Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Investigation to Ultra-Resolution Resist in Room-Temperature Imprint Lithography


    Beteiligte:
    Hansong, L. (Autor:in) / Yucheng, D. (Autor:in) / Suqin, W. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    01.01.2003


    Format / Umfang :

    4 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Unbekannt


    Klassifikation :

    DDC:    500



    Ultra-Precision Alignment for Room-Temperature Multi-Layer Imprint Lithography

    Li, W. / Bingheng, L. / Dongyin, C. | British Library Online Contents | 2004


    Etching Process for Residual Resist Layer in Ultraviolet-Imprint Lithography

    Yongsheng, S. / Yucheng, D. / Bingheng, L. | British Library Online Contents | 2006


    Design and Optimization of Resist Film in Imprint Lithography Alignment Process

    Jinyou, S. / Yucheng, D. / Bingheng, L. | British Library Online Contents | 2006


    Resist-based neutral atom lithography

    Thywissen, J. H. / Johnson, K. S. / Younkin, R. et al. | British Library Conference Proceedings | 1998


    Study on demolding temperature in thermal imprint lithography via finite element analysis

    Song, Z. / You, B. H. / Lee, J. et al. | British Library Online Contents | 2008