Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Feature length-scale modeling of LPCVD and PECVD MEMS fabrication processes


    Beteiligte:
    Musson, L. C. (Autor:in) / Ho, P. (Autor:in) / Plimpton, S. J. (Autor:in) / Schmidt, R. C. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 12 , 1-2 ; 137-142


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2005


    Format / Umfang :

    6 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Fabrication and characterization of PECVD silicon nitride for RF MEMS applications

    Rahman, H. U. / Johnson, B. C. / Mccallum, J. C. et al. | British Library Online Contents | 2013


    Variable MEMS-Based Inductors Fabricated from PECVD Silicon Nitride

    Dell, J. M. / Winchester, K. / Musca, C. A. et al. | British Library Conference Proceedings | 2002


    Variable MEMS-based inductors fabricated from PECVD silicon nitride

    Dell, J.M. / Winchester, K. / Musca, C.A. et al. | IEEE | 2002


    Processes for the Fabrication of Three Dimensional MEMS Structures

    Obermeier, E. | British Library Conference Proceedings | 2003