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    Titel :

    Low cost transparent SU-8 membrane mask for deep X-ray lithography


    Beteiligte:
    Cabrini, S. (Autor:in) / Perennes, F. (Autor:in) / Marmiroli, B. (Autor:in) / Olivo, A. (Autor:in) / Carpentiero, A. (Autor:in) / Kumar, R. (Autor:in) / Candeloro, P. (Autor:in) / Fabrizio, E. D. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 11 , 4/5 ; 370-373


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2005


    Format / Umfang :

    4 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    High precision, low cost mask for deep x-ray lithography

    Shew, B.-Y. / Cheng, Y. / Shih, W.-P. et al. | British Library Online Contents | 1998


    Fabrication of intermediate mask for deep x-ray lithography

    Sheu, J. T. / Chiang, M. H. / Su, S. | British Library Online Contents | 1998


    Deep X-ray lithography using mask with integrated electrothermal actuator

    Lee, K.-C. / Lee, S. S. | British Library Online Contents | 2005


    Holographic lithography needs no mask

    Nole, J. | British Library Online Contents | 1997


    A Si stencil mask for deep X-ray lithography fabricated by MEMS technology

    Mekaru, H. / Takano, T. / Ukita, Y. et al. | British Library Online Contents | 2008