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    Titel :

    Anisotropic Si deep beam etching with profile control using SF~6/O~2 Plasma


    Beteiligte:
    Zou, H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 10 , 8/9 ; 603-607


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2004


    Format / Umfang :

    5 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Plasma/Neutral-Beam Etching Apparatus

    Langer, William / Cohen, Samuel / Cuthbertson, John et al. | NTRS | 1989


    Chemical Beam Etching with Monolayer Control

    IEEE; Lasers and Electro-Optics Society | British Library Conference Proceedings | 1994


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    Moktadir, Z. / Prakash, G.V. / Koukharenko, E. et al. | IEEE | 2004


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