Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Advanced Etch Tool for High Etch Rate Deep Reactive Ion Etching in Silicon Micromachining Production Environment


    Beteiligte:

    Kongress:

    Conference; 5th, Advanced microsystems for automotive applications ; 2001



    Erscheinungsdatum :

    01.01.2001


    Format / Umfang :

    8 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    Sidewall roughness control in advanced silicon etch process

    Liu, H.-C. / Lin, Y.-H. / Hsu, W. | British Library Online Contents | 2003


    Comparison of etch characteristics of KOH, TMAH and EDP for bulk micromachining of silicon (110)

    Dutta, S. / Imran, M. / Kumar, P. et al. | British Library Online Contents | 2011


    Improved characteristics of reactive-ion-etching damage for n-GaN epitaxial layers after post-etch treatments

    Chang, J. Y. / Hong, H. F. / Yee, H. H. et al. | British Library Conference Proceedings | 2003