Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Sidewall roughness control in advanced silicon etch process


    Beteiligte:
    Liu, H.-C. (Autor:in) / Lin, Y.-H. (Autor:in) / Hsu, W. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    01.01.2003


    Format / Umfang :

    6 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Improvement of sidewall roughness in deep silicon etching

    Chabloz, M. / Sakai, Y. / Matsuura, T. et al. | British Library Online Contents | 2000


    Sidewall slopes and roughness of SU-8 HARMST

    Vora, K. D. / Shew, B. Y. / Lochel, B. et al. | British Library Online Contents | 2008


    Impact of Sidewall Roughness on Integrated Bragg Gratings

    Simard, A.D. / Ayotte, N. / Painchaud, Y. et al. | British Library Online Contents | 2011


    Sidewall slopes and roughness of SU-8 HARMST

    Vora, K. D. / Shew, B. Y. / Lochel, B. et al. | British Library Online Contents | 2008


    Effect of linewidth fluctuations and sidewall roughness in scatterometry

    Schuster, T. / Kenvien, N. / Osten, W. et al. | IEEE | 2005