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    Titel :

    Basis of macro/micro-machining and polishing of semiconductor materials using high etch rate plasma assisted chemical etching


    Beteiligte:
    Zarowin, C. (Autor:in)

    Kongress:

    34th Aerospace Sciences Meeting and Exhibit ; 1996 ; Reno , NV , U.S.A.



    Erscheinungsdatum :

    01.01.1996



    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch





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    `Machining' aluminum by etching

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    Sanz, M.C. | Engineering Index Backfile | 1954