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    Titel :

    Novel laser microlithography system


    Beteiligte:
    Shen, Guan-Qun (Autor:in) / Wu, Binchu (Autor:in) / Cai, Kangzhe (Autor:in) / Huang, Xuanshao (Autor:in) / Cao, Paiqi (Autor:in)

    Kongress:

    Optical/Laser Microlithography V ; 1992 ; San Jose,CA,United States


    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    1992-06-01





    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch



    Advanced krypton fluoride excimer laser for microlithography

    Ishihara, Toshihiko / Sandstrom, Richard L. / Reiser, Christopher et al. | SPIE | 1992


    High-repetition-rate ArF excimer laser for microlithography [4088-80]

    Wakabayashi, O. / Enami, T. / Ishii, K. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    Optical/laser microlithography IV : 6 - 8 March 1991 San Jose, California

    Conference on Optical, Laser Microlithography / Society of Photo-optical Instrumentation Engineers | TIBKAT | 1991


    Present and future trends in excimer-laser-based microlithography [3403-34]

    Tittel, F. K. / Erdelyi, M. / Horvath, Z. L. et al. | British Library Conference Proceedings | 1998


    Resonator using polarization beamsplitter prism for microlithography KrF excimer laser [3267-37]

    Yamanaka, K. / Hashidate, Y. / Takahashi, H. et al. | British Library Conference Proceedings | 1998