The use of laser assisted chemistry for dry etching of semiconductors is described. Both direct laser-driven etching of GaAs and laser-enhanced plasma etching of Si are given as examples.


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    Titel :

    Laser-Assisted Dry Etching Of Semiconducting Materials


    Beteiligte:
    Brewer, P (Autor:in) / Holber, W (Autor:in) / Reksten, G (Autor:in) / Osgood, R M. (Autor:in)

    Kongress:

    Laser-Assisted Deposition, Etching, and Doping ; 1984 ; Los Angeles,United States


    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    1984-06-14





    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch



    Deep UV laser-assisted cryo-etching of GaN

    Chih, M.C. / Chen, B.C. / Tsai, C.H. et al. | IEEE | 1997


    Polymer-Laser: Creating a Semiconducting-Polymer Laser

    Tessler, N. / Denton, G. J. / Friend, R. H. | British Library Online Contents | 1997



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    Town, G.E. / Vasdekis, A. / Bain, F. et al. | IEEE | 2005


    Semiconductor Ring Lasers Fabricated with UV Laser-assisted Cryo-etching

    IEEE; Lasers and Electro-Optics Society | British Library Conference Proceedings | 1997