Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Quality hydrogenated amorphous silicon deposited by triode assisted reactive sputtering


    Beteiligte:

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    1999



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch



    Klassifikation :

    BKL:    50.70 Energie: Allgemeines / 52.56 Regenerative Energieformen, alternative Energieformen / 52.52 Thermische Energieerzeugung, Wärmetechnik / 53.36 Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher



    Properties Of Plasma-Deposited Amorphous Hydrogenated Carbon

    Miyoshi, Kazuhisa / Pouch, John J. / Alterovitz, Samuel A. | NTRS | 1992



    Hydrogenated amorphous silicon alloy deposition processes

    Luft, Werner / Tsuo, Y. Simon / Tsuo, Y. S. | TIBKAT | 1993