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    Titel :

    Hydrogenated amorphous silicon alloy deposition processes


    Beteiligte:
    Luft, Werner (Autor:in) / Tsuo, Y. Simon (Autor:in) / Tsuo, Y. S. (Autor:in)


    Erscheinungsdatum :

    1993


    Format / Umfang :

    XIV, 327 S.


    Anmerkungen:

    graph. Darst.
    Literaturverz. S. 243 - 316
    Langzeitarchivierung durch Technische Informationsbibliothek (TIB) / Leibniz-Informationszentrum Technik und Naturwissenschaften und Universitätsbibliothek



    Medientyp :

    Buch


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch



    Klassifikation :

    BKL:    53.56 Halbleitertechnologie / 33.72 Halbleiterphysik / 52.56 Regenerative Energieformen, alternative Energieformen / 53.09 Werkstoffe der Elektrotechnik / 53.36 Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher
    Lokalklassifikation TIB:    elt 602 / elt 130 / elt 603
    RVK:    UP 7580
    DDC:    621.38152 / 621.3815/2