Reactor utilizes multiple stacked trays compactly arranged in paths of horizontally channeled reactant gas streams. Design allows faster and more efficient deposits of film on substrates, and reduces gas and energy consumption. Lack of dead spots that trap reactive gases reduces reactor purge time.


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    Titel :

    Chemical-vapor-deposition reactor


    Beteiligte:
    Chern, S. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    01.08.1979



    Medientyp :

    Sonstige


    Format :

    Keine Angabe


    Sprache :

    Englisch


    Schlagwörter :