Vor allem in der Halbleiterfertigung aber auch in anderen Fertigungs-, Prüf- und Instandhaltungsprozessen der Industrie sowie in der Forschung kommt Nanomesstechnik zum Einsatz. Durch Oberflächenabtastung mit Lasern in Kombination mit Mikroskopen wird die Erkennung und Verarbeitung immer kleinerer Strukturen möglich. Die Genauigkeit der Positionierung der Messvorrichtung zum Werkstück ist von entscheidender Bedeutung. Es wird der Prototyp einer Konstruktion aus Laserscanmikroskop mit wechselbaren Messköpfen, einem industriellen Nanopositioniertisch, einem kapazitiven Abstandsmesssensor, Ablenkspiegeln für die interferometrische Messdatenerfassung und einem über Glasfaserkabel zugeleitetem He-Ne-Laser beschrieben. Zum Vergleich der erzielbaren Genauigkeit wurden gleichzeitig interferometrischen und kapazitiven Messungen vorgenommen. Die Ergebnisse werden erläutert.


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    Titel :

    Interferometric displacement measurement for local probe microscopy


    Weitere Titelangaben:

    Interferometrische Abstandsmessung für das scannende Mikroskopieverfahren



    Erschienen in:

    tm - Technisches Messen ; 76 , 5 ; 253-258


    Erscheinungsdatum :

    2009-01-01


    Format / Umfang :

    6 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Deutsch




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    Nau, G. M. / Danver, B. A. / Tveten, A. B. et al. | British Library Conference Proceedings | 1997


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