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    Titel :

    High-average-power, high-repetition-rate, injection-seeded 213 nm generation for optical microlithography


    Beteiligte:
    Kubota, S. (Autor:in) / Masuda, H. (Autor:in) / Kikuchi, H. (Autor:in) / Oka, M. (Autor:in) / Alexander, J. (Autor:in)


    Erscheinungsdatum :

    01.01.1997


    Format / Umfang :

    325769 byte




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch



    High-repetition-rate ArF excimer laser for microlithography [4088-80]

    Wakabayashi, O. / Enami, T. / Ishii, K. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    An Injection-seeded MHz Repetition Rate OPO System

    Jiang, Naibo / Samimy, Mo / Lempert, Walter et al. | AIAA | 2006


    AIAA 2006-0838 An Injection-seeded MHz Repetition Rate OPO system

    Jiang, N. / Uddi, M. / Samimy, M. et al. | British Library Conference Proceedings | 2006