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    Titel :

    Direct simulation of chemical deposition of silicon


    Beteiligte:
    Gallis, Michael (Autor:in) / Harvey, John (Autor:in)

    Kongress:

    31st Thermophysics Conference ; 1996 ; New Orleans , LA , U.S.A.



    Erscheinungsdatum :

    01.01.1996



    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch




    Direct Simulation of the Chemical Deposition of Silicon

    Gallis, M. A. / Harvey, J. K. / AIAA | British Library Conference Proceedings | 1996


    Chemical-Vapor Deposition Of Silicon Carbide

    Cagliostro, D. E. / Riccitiello, S. R. / Ren, J. et al. | NTRS | 1993



    Chemical-vapor deposition of silicon from silane

    Hsu, G. C. / Lutwack, R. / Praturi, A. K. | NTRS | 1979


    Direct simulation of chemical reactions

    STARK, J. P. W. / BOYD, I. D. | AIAA | 1990