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    Titel :

    Direct Simulation of the Chemical Deposition of Silicon


    Beteiligte:
    Gallis, M. A. (Autor:in) / Harvey, J. K. (Autor:in) / AIAA

    Kongress:

    Conference; 31st, 31st AIAA thermophysics conference ; 1996 ; New Orleans; LA


    Erscheinungsdatum :

    01.01.1996


    Format / Umfang :

    ALL


    Anmerkungen:

    Nos 96-1800 to 96-1911 with gaps; See also 6369.400F nos 96-1800 to 96-2277 for separate papers on microfiche and 6237.630 for 2 separate papers nos 51 and 57


    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Schlagwörter :


    Direct simulation of chemical deposition of silicon

    Gallis, Michael / Harvey, John | AIAA | 1996


    Chemical-Vapor Deposition Of Silicon Carbide

    Cagliostro, D. E. / Riccitiello, S. R. / Ren, J. et al. | NTRS | 1993



    Chemical-vapor deposition of silicon from silane

    Hsu, G. C. / Lutwack, R. / Praturi, A. K. | NTRS | 1979


    Direct simulation of chemical reactions

    STARK, J. P. W. / BOYD, I. D. | AIAA | 1990