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    Titel :

    High-rate growth of hydrogenated amorphous and microcrystalline silicon for thin-film silicon solar cells using dynamic very-high frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition


    Beteiligte:

    Erscheinungsdatum :

    2013


    Anmerkungen:

    Langzeitarchivierung durch Sächsische Landesbibliothek - Staats- und Universitätsbibliothek Dresden



    Medientyp :

    Hochschulschrift


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch


    Schlagwörter :

    Klassifikation :

    DDC:    621.3 / 620
    RVK:    ZN 4174
    BKL:    53.36 Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher