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    Titel :

    High-rate growth of hydrogenated amorphous and microcrystalline silicon for thin-film silicon solar cells using dynamic very-high frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition


    Beteiligte:


    Erscheinungsdatum :

    2013


    Format / Umfang :

    X, 126 S.


    Anmerkungen:

    zahlr. Ill., graph. Darst.
    Langzeitarchivierung durch Technische Informationsbibliothek (TIB) / Leibniz-Informationszentrum Technik und Naturwissenschaften und Universitätsbibliothek
    Langzeitarchivierung durch Sächsische Landesbibliothek - Staats- und Universitätsbibliothek Dresden



    Medientyp :

    Hochschulschrift , Report


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch



    Klassifikation :

    DDC:    621.31244 / 620 / 621.3 / 500
    RVK:    ZN 4174
    BKL:    53.36 Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher