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    Titel :

    Low resistive silicon substrate as an etch-stop layer for drilling thick SiO2 by spark assisted chemical engraving (SACE)


    Beteiligte:
    Ozhikandathil, J. (Autor:in) / Morrison, A. (Autor:in) / Packirisamy, M. (Autor:in) / Wüthrich, R. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 17 , 3 ; 373-380


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2011


    Format / Umfang :

    8 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



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