An aircraft skin coating assembly for an aircraft. The coating assembly includes a primer layer deposited on the aircraft skin, an optical stop-etch layer deposited on the primer layer that is reflective at a predetermined wavelength, a coating stack-up deposited on the optical etch-stop layer that provides performance features for the aircraft, and a sealant layer deposited on the stack-up. When a laser coating removal process employing a laser beam is used to remove the coating stack-up for replacement, the stop-etch layer reflects the laser beam to prevent it from penetrating and possibly damaging the aircraft skin.


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    Titel :

    MULTI-FUNCTIONAL LAYER FOR STOP ETCH IN LASER COATING REMOVAL


    Weitere Titelangaben:

    MULTIFUNKTIONELLE SCHICHT ZUM ÄTZSTOPP BEI DER LASERBESCHICHTUNGSENTFERNUNG
    COUCHE MULTIFONCTIONNELLE POUR ARRÊT DE GRAVURE DANS L'ENLÈVEMENT DE REVÊTEMENT PAR LASER


    Beteiligte:
    KNIGHT MARK W (Autor:in) / SHINDO PATRICK W (Autor:in) / LIMBURG CONNOR (Autor:in) / TICE JESSE (Autor:in)

    Erscheinungsdatum :

    21.08.2024


    Medientyp :

    Patent


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    IPC:    B64F GROUND OR AIRCRAFT-CARRIER-DECK INSTALLATIONS SPECIALLY ADAPTED FOR USE IN CONNECTION WITH AIRCRAFT , Boden- oder Flugzeugträgerdeckeinrichtungen besonders ausgebildet für die Verwendung in Verbindung mit Luftfahrzeugen / C09D Überzugsmittel, z.B. Anstrichstoffe, Firnisse oder Lacke , COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS



    MULTI-FUNCTIONAL LAYER FOR STOP ETCH IN LASER COATING REMOVAL

    KNIGHT MARK / SHINDO PATRICK / LIMBURG CONNOR et al. | Europäisches Patentamt | 2023

    Freier Zugriff

    MULTI-FUNCTIONAL LAYER FOR STOP ETCH IN LASER COATING REMOVAL

    KNIGHT MARK W / SHINDO PATRICK W / LIMBURG CONNOR et al. | Europäisches Patentamt | 2023

    Freier Zugriff

    Multi-functional layer for stop etch in laser coating removal

    KNIGHT MARK W / SHINDO PATRICK W / LIMBURG CONNOR et al. | Europäisches Patentamt | 2024

    Freier Zugriff

    Machine for electrochemical etch stop [4414-92]

    Zhou, K. / Lan, M. / Chen, W. et al. | British Library Conference Proceedings | 2001


    Low resistive silicon substrate as an etch-stop layer for drilling thick SiO2 by spark assisted chemical engraving (SACE)

    Ozhikandathil, J. / Morrison, A. / Packirisamy, M. et al. | British Library Online Contents | 2011