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    Titel :

    Fabrication of RF MEMS variable capacitors by deep X-ray lithography and electroplating


    Beteiligte:
    Achenbach, S. (Autor:in) / Klymyshyn, D. (Autor:in) / Haluzan, D. (Autor:in) / Mappes, T. (Autor:in) / Wells, G. (Autor:in) / Mohr, J. r. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 13 , 3-4 ; 343-347


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2007


    Format / Umfang :

    5 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Fabrication of sub-micron structures for MEMS using deep X-ray lithography

    Ueno, H. / Zhang, Y. / Nishi, N. et al. | British Library Online Contents | 2000


    Stiction issues and actuation of RF LIGA-MEMS variable capacitors

    Haluzan, D. T. / Klymyshyn, D. M. / Börner, M. et al. | British Library Online Contents | 2008




    Acceleration threshold switches from an additive electroplating MEMS process

    Michaelis, S. / Timme, H.J. / Wycisk, M. et al. | Tema Archiv | 2000