Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    There are NO Fundamental Limits to Optical Nanolithography



    Kongress:

    annual meeting; 17TH, IEEE Lasers & Electro-optics Society:; LEOS 2004 ; 2004 ; Rio Grande, Puerto Rico



    Erscheinungsdatum :

    2004-01-01


    Format / Umfang :

    2 pages


    Anmerkungen:

    IEEE cat. no. 04CH37581




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch





    Fundamental limits of optical transparency

    Tkach, R.W. / Nagel, J.A. / Strand, J.L. | IEEE | 1998


    Nanolithography ߝ nanoimprinting

    Nevludov, I.Sh. / Palagin, V.A. / Frizuk, E.A. | IEEE | 2007



    Fundamental Limits to the Wavelength Measurement of Optical Signals

    IEEE | British Library Conference Proceedings | 2003