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    Titel :

    Interferometric metrology of wafer nanotopography for advanced CMOS process integration (Invited Paper) [4449-21]


    Beteiligte:

    Kongress:

    Conference; 2nd, Optical metrology roadmap for the semiconductor, optical, and data storage industries ; 2001 ; San Diego, CA



    Erscheinungsdatum :

    2001-01-01


    Format / Umfang :

    9 pages




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch





    Nr. 4449

    DataCite | 1930


    Use of light scatter signals to identify particle material (Invited Paper) [4449-17]

    Stover, J. C. / Ivakhnenko, V. I. / Eremin, Y. A. et al. | British Library Conference Proceedings | 2001


    Recent developments in spectroscopic ellipsometry for in-situ applications (Invited Paper) [4449-07]

    Johs, B. D. / Hale, J. / Ianno, N. J. et al. | British Library Conference Proceedings | 2001


    Advanced Habitation Strategies for Aggressive Mass Reduction (AIAA 2015-4449)

    Wald, Samuel I. | British Library Conference Proceedings | 2015