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    Titel :

    Characterization of internal stress of silicon oxinitride thin films fabricated by plasma-enhanced chemical vapor deposition: applications in integrated optics [4596-03]



    Kongress:

    Conference; 2nd, Advanced photonic sensors and applications ; 2000 ; Singapore



    Erscheinungsdatum :

    01.01.2001


    Format / Umfang :

    7 pages




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    Nr. 4596

    DataCite | 1933


    Thin films residual stress measurement by optical profilometry [4596-02]

    Costa, M. F. M. / SPIE | British Library Conference Proceedings | 2001


    Multichannel 3D profilometry [4596-27]

    Li, C. / Asundi, A. K. / Fang, Z. P. et al. | British Library Conference Proceedings | 2001


    Switching property of sol-gel vanadium oxide thin films [4596-04]

    Yuan, N. / Li, J. / Lin, C. et al. | British Library Conference Proceedings | 2001


    Dynamic phase-shift photoelasticity [4596-44]

    Liu, T. / Boay, C. G. / Asundi, A. K. et al. | British Library Conference Proceedings | 2001