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    Titel :

    Mo/Si multilayer coating technology for EUVL: coating uniformity and time stability [4146-06]


    Beteiligte:
    Louis, E. (Autor:in) / Yakshin, A. E. (Autor:in) / Gorts, P. C. (Autor:in) / Oestreich, S. (Autor:in) / Maas, E. L. G. (Autor:in) / Kessels, M. J. H. (Autor:in) / Schmitz, D. (Autor:in) / Scholze, F. (Autor:in) / Ulm, G. (Autor:in) / Mullender, S. (Autor:in)

    Kongress:

    Conference, Soft x-ray and EUV imaging systems ; 2000 ; San Diego, CA



    Erscheinungsdatum :

    01.01.2000


    Format / Umfang :

    4 pages




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    Nr. 4146

    DataCite | 1925


    Multilayer reflectance during exposure to EUV radiation [4146-07]

    Oestreich, S. / Klein, R. / Scholze, F. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    Si-based multilayers with high thermal stability [4146-23]

    Kaiser, N. / Yulin, S. / Feigl, T. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    High-resolution soft x-ray microscopy [4146-24]

    Chao, W. / Anderson, E. H. / Denbeaux, G. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    Portable diagnostics for EUV light sources [4146-13]

    Stuik, R. / Constantinescu, R. C. / Hegeman, P. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000